24

A photo-polymerization resist for UV nanoimprint lithography

Année:
2009
Langue:
english
Fichier:
PDF, 740 KB
english, 2009
50

A novel efficient approach for DFMEA combining 2-tuple and the OWA operator

Année:
2010
Langue:
english
Fichier:
PDF, 243 KB
english, 2010